લેક્ટોબિયોનિક એસિડ

કોસ્મેટ^®એલબીએ,લેક્ટોબિયોનિક એસિડ,4-O-બીટા-ડી-ગેલેક્ટોપાયરાનોસિલ-ડી-ગ્લુકોનિક એસિડએન્ટીઑકિસડન્ટ પ્રવૃત્તિ દ્વારા વર્ગીકૃત થયેલ છે અને સમારકામ પદ્ધતિઓને ટેકો આપે છે. ત્વચાની બળતરા અને બળતરાને સંપૂર્ણ રીતે શાંત કરે છે, તેના શાંત અને લાલાશ ઘટાડવાના ગુણધર્મો માટે જાણીતું છે, તેનો ઉપયોગ સંવેદનશીલ વિસ્તારો તેમજ ખીલ ત્વચાની સંભાળ માટે થઈ શકે છે.

કોસ્મેટ^®એલબીએ,લેક્ટોબિયોનિક એસિડદૂધની ખાંડમાંથી મેળવેલ બિન-બળતરાકારક પોલીહાઇડ્રોક્સી એસિડ. લેક્ટોબિયોનિક એસિડ એ લેક્ટોઝના ઓક્સિડેશનમાંથી મેળવેલ એલ્ડોનિક એસિડ છે અને તેમાં ઇથર જેવા જોડાણ દ્વારા ગ્લુકોનિક એસિડ પરમાણુ સાથે જોડાયેલ ગેલેક્ટોઝ મોઇટીનો સમાવેશ થાય છે. લેક્ટોબિયોનિક એસિડ ફોટોએજિંગના દેખાવને રોકવા અને ઉલટાવી દેવામાં મદદ કરે છે, જેમાં રેખાઓ અને કરચલીઓ, અસમાન રંગદ્રવ્ય, વિસ્તૃત છિદ્રો અને ખરબચડાપણું શામેલ છે. ટ્રાન્સપ્લાન્ટ અંગોને ઓક્સિડેટીવ નુકસાન અટકાવવા માટે વપરાતું એક શક્તિશાળી એન્ટીઑકિસડન્ટ, લેક્ટોબિયોનિક એસિડ ત્વચાની રચના અને શક્તિને બગાડતા MMP ઉત્સેચકોને અટકાવીને ફોટોએજિંગ સામે ત્વચાનું રક્ષણ કરે છે. એક કુદરતી હ્યુમેક્ટન્ટ, તે ત્વચા પર મોઇશ્ચરાઇઝિંગ અવરોધ બનાવવા માટે પાણીને બાંધે છે, નરમાઈ અને મખમલી સરળતા પ્રદાન કરે છે. આ ઘટક તમામ પ્રકારની ત્વચા માટે યોગ્ય છે અને પ્રક્રિયાઓ પછી તેનો ઉપયોગ કરી શકાય છે.

કોસ્મેટ^®LBA, લેક્ટોબિયોનિક એસિડ એ એક પ્રકારનું પોલીહાઇડ્રોક્સી એસિડ (PHA) છે જે ત્વચાને એક્સ્ફોલિયેટ કરી શકે છે, તે રાસાયણિક અને કાર્યાત્મક રીતે AHAs (દા.ત. ગ્લાયકોલિક એસિડ) જેવું જ છે, પરંતુ લેક્ટોબિયોનિક એસિડ અને AHAs વચ્ચેનો નોંધપાત્ર તફાવત એ છે કે લેક્ટોબિયોનિક એસિડમાં મોટી પરમાણુ રચના હોય છે જે ત્વચામાં પ્રવેશવાની તેની ક્ષમતાને મર્યાદિત કરે છે, પરિણામે ડંખ મારવાની શક્યતા ઓછી થાય છે.

કોસ્મેટ^®LBA, લેક્ટોબિયોનિક એસિડના ત્વચા માટેના મુખ્ય કાર્યો છે *ત્વચાને સુંવાળી બનાવવી,* ભેજ અને મજબૂતાઈ વધારવી,* કરચલીઓની દૃશ્યતા ઘટાડવી,* રોસેસીયાને કારણે થતી બળતરા અને ઘાને ઓછી કરવી અને ઘટાડવી,* વિસ્તરેલી રુધિરકેશિકાઓની દૃશ્યતા ઘટાડવી.

લેક્ટોબિયોનિક એસિડએ એક પોલીહાઇડ્રોક્સિ એસિડ (PHA) છે જે દૂધમાં જોવા મળતી ખાંડ, લેક્ટોઝમાંથી મેળવવામાં આવે છે. તે તેના હળવા એક્સફોલિએટિંગ, હાઇડ્રેટિંગ અને એન્ટીઑકિસડન્ટ ગુણધર્મો માટે જાણીતું છે, જે તેને સંવેદનશીલ અને વૃદ્ધ ત્વચા માટે ત્વચા સંભાળમાં એક લોકપ્રિય ઘટક બનાવે છે. લેક્ટોબિયોનિક એસિડ "ગુંદર" ને તોડીને કામ કરે છે જે મૃત ત્વચા કોષોને એકસાથે રાખે છે, હળવા એક્સફોલિએશનને પ્રોત્સાહન આપે છે. તેનું મોટું પરમાણુ કદ તેને ત્વચામાં ખૂબ ઊંડે સુધી પ્રવેશતા અટકાવે છે, બળતરાનું જોખમ ઘટાડે છે. તે ત્વચા પર એક રક્ષણાત્મક ફિલ્મ પણ બનાવે છે, જે ભેજને બંધ કરવામાં અને પર્યાવરણીય તાણ સામે રક્ષણ આપવામાં મદદ કરે છે.

ત્વચા સંભાળમાં ફાયદા:

*સૌમ્ય એક્સ્ફોલિયેશન: PHA તરીકે, તે મૃત ત્વચા કોષોને દૂર કરવામાં મદદ કરે છે, બળતરા પેદા કર્યા વિના ત્વચાની રચના અને સ્વરમાં સુધારો કરે છે (ગ્લાયકોલિક એસિડ જેવા આલ્ફા-હાઇડ્રોક્સી એસિડ (AHAs) થી વિપરીત).

*હાઇડ્રેશન: હ્યુમેક્ટન્ટ તરીકે કામ કરે છે, ત્વચામાં ભેજ ખેંચે છે અને હાઇડ્રેશન સ્તર જાળવવામાં મદદ કરે છે.

*એન્ટીઓક્સીડન્ટ ગુણધર્મો: યુવી કિરણોત્સર્ગ અને પર્યાવરણીય પ્રદૂષકોને કારણે થતા મુક્ત રેડિકલ નુકસાનથી ત્વચાનું રક્ષણ કરે છે.

*વૃદ્ધત્વ વિરોધી: કોલેજન ઉત્પાદનને પ્રોત્સાહન આપે છે અને ત્વચાની સ્થિતિસ્થાપકતામાં સુધારો કરે છે, જેનાથી ઝીણી રેખાઓ અને કરચલીઓનો દેખાવ ઓછો થાય છે.

*સુથિંગ: બળતરા અથવા સંવેદનશીલ ત્વચાને શાંત કરે છે અને શાંત કરે છે, જે તેને રોસેસીઆ-પ્રોન અથવા પ્રતિક્રિયાશીલ ત્વચા પ્રકારો માટે યોગ્ય બનાવે છે.

*ચેલેટીંગ એજન્ટ: ત્વચા પર ધાતુના આયન સાથે જોડાય છે, જે ઓક્સિડેટીવ તણાવ ઘટાડવામાં અને ત્વચા સંભાળના અન્ય ઘટકોની અસરકારકતા વધારવામાં મદદ કરી શકે છે.

મુખ્ય ટેકનિકલ પરિમાણો:

અરજીઓ:*એન્ટીઓક્સીડન્ટ,*સિક્વેસ્ટરિંગ એજન્ટ,*હ્યુમેક્ટન્ટ,*ટોનિંગ એજન્ટ,* બળતરા વિરોધી.

*ફેક્ટરી ડાયરેક્ટ સપ્લાય

*ટેકનિકલ સપોર્ટ

*નમૂનાઓ સપોર્ટ

*ટ્રાયલ ઓર્ડર સપોર્ટ

*નાના ઓર્ડર સપોર્ટ

*સતત નવીનતા

*સક્રિય ઘટકોમાં નિષ્ણાત

*બધા ઘટકો શોધી શકાય છે